9月19日，第十三届全国试剂与应用技术交流会在贵阳成功召开，本届会议由全国化学试剂信息总站主办，《化学试剂》编辑部承办，光华科技作为会议支持单位，与业界著名专家学者、优秀企业代表共同参与此次大会。
会议以“试剂在新材料领域中的应用”为主题，总结试剂在新材料领域应用的新成果、新进展及新技术，探讨科技发展的新动态和新趋势，解析试剂发展的前景与市场需求。
本次交流会为大家提供了宝贵的技术、资讯分享平台，光华科技收获满满。展望未来，我们将聚焦集成电路和显示面板用超净高纯化学试剂的研究和产业化，围绕集成电路制造中湿制程核心生产工艺的关键技术问题，开展集成电路专用化学品、超净高纯化学试剂研发及产业化，开发出具有自主核心知识产权的集成电路制造专用电子化学品，推动国内试剂技术和集成电路行业发展。
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